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源能智创取得一种吸附平台专利,增加真空对于陶瓷基板的吸附压力
金融界2025年4月10日消息,国家知识产权局信息显示,源能智创(江苏)半导体有限公司取得一项名为“一种吸附平台”的专利,授权公告号 CN 222734394 U,申请日期为2024年3月。专利摘要显示,一种吸附平台,所述吸附平台包括基台和压板机构,所述基台包括真空吸附区,基板放置于真空吸附区,所述
2025-04-10 11:14:00
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